2023上海國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)

Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition

基本信息

時(shí)間：2023年11月22-24日

地點(diǎn)：上海新國(guó)際博覽中心 

展會(huì)簡(jiǎn)介 

   微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動(dòng)力，21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來(lái),在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。

隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動(dòng)芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無(wú)法滿足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進(jìn)的大視場(chǎng)、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。“2023上海國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展覽會(huì)”將于11月22-24日在上海新國(guó)際博覽中心隆重舉辦，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！ 

參展理由

1、品牌吸引力-在同行和客戶間展示形象、提升行業(yè)地位、品牌價(jià)值度、知名度、榮譽(yù)度。

2、市場(chǎng)策略-了解市場(chǎng)信息、拓展銷售渠道、獲取市場(chǎng)訂單、維護(hù)銷售網(wǎng)絡(luò)。

3、建立進(jìn)口、批發(fā)、經(jīng)銷、團(tuán)購(gòu)、零售的銷售渠道。

4、獲取產(chǎn)品的忠實(shí)粉絲您的品牌將會(huì)被專業(yè)及大眾媒體關(guān)注和跟蹤宣傳，成為產(chǎn)品中的明星。

觀眾邀請(qǐng)

邀請(qǐng)全國(guó)、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國(guó)防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽(yáng)能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會(huì)參觀、洽談。

展會(huì)亮點(diǎn)

平臺(tái)：締造行業(yè)采購(gòu)交流平臺(tái)；

了解：規(guī)劃、設(shè)計(jì)與施工國(guó)內(nèi)外產(chǎn)品新技術(shù)及服務(wù)；

建立：用戶直達(dá)現(xiàn)場(chǎng)，構(gòu)建新的客戶關(guān)系；

結(jié)識(shí)：上下游產(chǎn)業(yè)聯(lián)動(dòng)，精彩論壇、沙龍助推業(yè)界專家、同仁及用戶零距離接觸；

推廣：通過(guò)主承辦單位強(qiáng)大的行業(yè)沉淀，為您提供廣闊的市場(chǎng)推廣；

日程安排

報(bào)到布展：

2023年11月20-21日

展出時(shí)間：

2023年11月22日

2023年11月23日

2023年11月24日

參展范圍

◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；

◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無(wú)掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無(wú)機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；

◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測(cè)試等；

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